I tubi dei forni a semiconduttore (come quelli utilizzati nei forni a diffusione, nei forni a ossidazione, ecc.) devono soddisfare requisiti rigorosi quali purezza ultra elevata, stabilità alle alte temperature e resistenza agli shock termici. Il tubo da forno RSiC è diventato un materiale di uso comune grazie alle sue eccellenti proprietà. La purezza del corpo sinterizzato è superiore a 3N e la precisione di lavorazione è di 0,01 mm.
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Il supporto per wafer RSiC è un componente fondamentale nei processi di produzione di semiconduttori e di crescita dei cristalli, specificamente progettato per supportare wafer di silicio o substrati di carburo di silicio in ambienti ad alta temperatura. Questo essenziale supporto per wafer da 12 pollici fornisce un supporto affidabile durante le varie fasi di lavorazione termica.
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Il tubo di protezione per termocoppia in carburo di silicio legato al nitruro di silicio (NSiC) è un componente fondamentale nel campo della misurazione delle alte temperature. Il tubo di protezione per termocoppie NSiC offre prestazioni eccellenti in ambienti estremi che richiedono resistenza alle alte temperature, resistenza all'usura e stabilità termica.
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Il cilindro isolante della camera del forno è un componente fondamentale del campo termico utilizzato nei processi di produzione dei semiconduttori, come la crescita del silicio monocristallino e il trattamento termico dei wafer. Il cilindro isolante deve soddisfare i requisiti di temperatura estremamente elevata, elevata purezza ed eccellente isolamento termico.
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La piastra di schermatura termica del forno è il componente principale dei semiconduttori ad alta temperatura, i pannelli fotovoltaici. Nuova attrezzatura per la sinterizzazione di materiali con piastra di schermatura termica RSiC. La piastra di schermatura termica RSiC presenta le seguenti caratteristiche: resistenza alle alte temperature, bassa perdita di calore e lunga durata.
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La pala a sbalzo in carburo di silicio ricristallizzato è un componente ceramico ad alte prestazioni, utilizzato principalmente in settori quali quello chimico, metallurgico, della protezione ambientale e dei semiconduttori, grazie alla sua superiore resistenza alle alte temperature, alla corrosione, all'usura e alla buona stabilità agli shock termici.
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Il wafer in SiC è un supporto fondamentale nei processi di produzione di semiconduttori e di crescita dei cristalli, utilizzato principalmente per trasportare wafer di silicio o substrati di carburo di silicio in ambienti ad alta temperatura. La barca in wafer di carburo di silicio presenta vantaggi quali elevata purezza, resistenza alle alte temperature (oltre 1600 °C), resistenza alla corrosione da acidi e alcali, basso coefficiente di dilatazione termica ed elevata conduttività termica.
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Il wafer RSiC è un supporto fondamentale nei processi di produzione di semiconduttori e di crescita dei cristalli, utilizzato principalmente per trasportare wafer di silicio o substrati di carburo di silicio in ambienti ad alta temperatura. Le navicelle orizzontali per wafer vengono utilizzate nei forni a diffusione orizzontale.
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Il supporto per wafer RSiC è un supporto fondamentale nei processi di produzione di semiconduttori e di crescita dei cristalli, utilizzato principalmente per trasportare wafer di silicio o substrati di carburo di silicio in ambienti ad alta temperatura. Il supporto per wafer semiconduttore presenta vantaggi quali elevata purezza, resistenza alle alte temperature (oltre 1600 °C), resistenza alla corrosione da acidi e alcali, basso coefficiente di dilatazione termica ed elevata conduttività termica.
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Tubo del forno RSiC: il tubo del forno in carburo di silicio ricristallizzato è un componente chiave nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori, utilizzato principalmente in camere di processo ad alta temperatura (come crescita epitassiale, impianto ionico, forni a diffusione, ecc.). La purezza del corpo sinterizzato è superiore a 3N e la precisione di lavorazione può raggiungere 0,01 mm, soddisfacendo i requisiti di purezza ultra elevata, resistenza alla corrosione e dimensioni di precisione.
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Il wafer boat in RSiC è un componente fondamentale nella produzione di semiconduttori, progettato per fissare in modo sicuro i wafer durante i processi ad alta temperatura. I wafer boat in RSiC presentano un'elevata resistenza alle alte temperature, un'eccellente resistenza agli shock termici, un'eccellente resistenza alla corrosione da acidi e alcali, elevata purezza e stabilità strutturale.
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Il tubo di protezione per termocoppie in carburo di silicio ricristallizzato (RSiC) è un componente fondamentale nel campo della misurazione delle alte temperature. Il tubo termocoppia RSiC offre prestazioni eccellenti in ambienti estremi che richiedono resistenza alle alte temperature, resistenza all'usura e stabilità termica.
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